การเคลือบคาร์บอนแบบไพโรไลติกเป็นชั้นบางๆ ของเคลือบคาร์บอนไพโรไลติกบนพื้นผิวของไอโซสแตติกที่มีความบริสุทธิ์สูงกราไฟท์โดยใช้เทคโนโลยีการสะสมไอสารเคมี (CVD) มีความหนาแน่นสูง มีความบริสุทธิ์สูง และมีแอนไอโซทรอปิกคุณสมบัติทางความร้อน ไฟฟ้า แม่เหล็ก และทางกล
คุณสมบัติหลัก：
1. พื้นผิวมีความหนาแน่นและไม่มีรูพรุน
2. ความบริสุทธิ์สูง ปริมาณสิ่งเจือปนรวม <20ppmสุญญากาศที่ดี
3.ทนต่ออุณหภูมิสูง ความแข็งแรงเพิ่มขึ้นตามอุณหภูมิการใช้งานที่เพิ่มขึ้นถึงจุดสูงสุดค่าที่ 2,750 ℃, การระเหิดที่ 3,600 ℃
4.โมดูลัสยืดหยุ่นต่ำ, ค่าการนำความร้อนสูง, ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อนต่ำ,และทนต่อแรงกระแทกจากความร้อนได้ดีเยี่ยม
5.ความคงตัวทางเคมีที่ดี ทนทานต่อกรด ด่าง เกลือ และรีเอเจนต์อินทรีย์ และมีไม่มีผลกระทบต่อโลหะหลอมเหลว ตะกรัน และสื่อที่มีฤทธิ์กัดกร่อนอื่นๆ มันไม่ได้ออกซิไดซ์อย่างมีนัยสำคัญในบรรยากาศต่ำกว่า 400 ℃ และอัตราการออกซิเดชันอย่างมีนัยสำคัญเพิ่มขึ้นที่ 800 ℃
6. โดยไม่ต้องปล่อยก๊าซใด ๆ ที่อุณหภูมิสูง ก็สามารถรักษาสุญญากาศของ10-7mmHg ที่ประมาณ 1800 ℃
การประยุกต์ใช้ผลิตภัณฑ์:
1. เบ้าหลอมสำหรับการระเหยในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์
2. ประตูหลอดอิเล็กทรอนิกส์กำลังสูง
3. แปรงที่สัมผัสกับตัวควบคุมแรงดันไฟฟ้า
4. โมโนโครเมเตอร์กราไฟท์สำหรับรังสีเอกซ์และนิวตรอน
5. พื้นผิวกราไฟท์รูปทรงต่างๆ และการเคลือบท่อดูดกลืนอะตอม
ผลการเคลือบคาร์บอนไพโรไลติกภายใต้กล้องจุลทรรศน์ 500X โดยมีพื้นผิวที่ปิดสนิทและสมบูรณ์
