บาร์เรลเครื่องปฏิกรณ์แบบ Epitaxial ที่เคลือบด้วยซิลิคอนคาร์ไบด์

คำอธิบายสั้น ๆ :

Semicera เป็นองค์กรเทคโนโลยีขั้นสูงที่มีส่วนร่วมในการวิจัยวัสดุมาหลายปี โดยมีทีม R&D ชั้นนำ รวมถึง R&D และการผลิตแบบครบวงจร จัดหาถังปฏิกรณ์อีพิแอกเซียลเคลือบซิลิคอนคาร์ไบด์แบบกำหนดเอง เพื่อหารือกับผู้เชี่ยวชาญด้านเทคนิคของเราถึงวิธีการได้รับประสิทธิภาพที่ดีที่สุดและความได้เปรียบทางการตลาดสำหรับผลิตภัณฑ์ของคุณ

 


รายละเอียดสินค้า

แท็กสินค้า

ทำไมต้องเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์?

ในด้านเซมิคอนดักเตอร์ ความเสถียรของแต่ละส่วนประกอบมีความสำคัญมากสำหรับกระบวนการทั้งหมด อย่างไรก็ตาม ในสภาพแวดล้อมที่มีอุณหภูมิสูง กราไฟท์จะถูกออกซิไดซ์และสูญหายได้ง่าย และการเคลือบ SiC สามารถให้การปกป้องชิ้นส่วนกราไฟท์ได้อย่างเสถียร ในเซมิเซราทีมงาน เรามีอุปกรณ์การประมวลผลการทำให้บริสุทธิ์กราไฟท์ของเราเอง ซึ่งสามารถควบคุมความบริสุทธิ์ของกราไฟท์ต่ำกว่า 5ppm ความบริสุทธิ์ของการเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์ต่ำกว่า 0.5 ppm

 

ข้อได้เปรียบของเรา ทำไมต้องเลือก Semicera?

✓คุณภาพสูงสุดในตลาดจีน

 

✓บริการดีๆ สำหรับคุณเสมอ 7*24 ชั่วโมง

 

✓วันที่จัดส่งสั้น

 

✓ยินดีต้อนรับและยอมรับ MOQ ขนาดเล็ก

 

✓บริการที่กำหนดเอง

อุปกรณ์การผลิตควอตซ์ 4

แอปพลิเคชัน

ตัวรับการเจริญเติบโตของ Epitaxy

เวเฟอร์ซิลิคอน/ซิลิคอนคาร์ไบด์จำเป็นต้องผ่านกระบวนการหลายอย่างเพื่อใช้ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ กระบวนการที่สำคัญคือซิลิคอน/ซิกเอพิแทกซี ซึ่งเวเฟอร์ซิลิคอน/ซิกถูกลำเลียงบนฐานกราไฟท์ ข้อได้เปรียบพิเศษของฐานกราไฟท์เคลือบซิลิคอนคาร์ไบด์ของ Semicera ได้แก่ ความบริสุทธิ์สูงมาก การเคลือบสม่ำเสมอ และอายุการใช้งานยาวนานมาก นอกจากนี้ยังมีความทนทานต่อสารเคมีสูงและมีเสถียรภาพทางความร้อน

 

การผลิตชิป LED

ในระหว่างการเคลือบเครื่องปฏิกรณ์ MOCVD อย่างครอบคลุม ฐานดาวเคราะห์หรือตัวพาจะเคลื่อนแผ่นเวเฟอร์ของซับสเตรต ประสิทธิภาพของวัสดุฐานมีอิทธิพลอย่างมากต่อคุณภาพการเคลือบ ซึ่งจะส่งผลต่ออัตราการเสียของเศษด้วย ฐานเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์ของ Semicera เพิ่มประสิทธิภาพการผลิตเวเฟอร์ LED คุณภาพสูง และลดการเบี่ยงเบนความยาวคลื่นให้เหลือน้อยที่สุด นอกจากนี้เรายังจัดหาส่วนประกอบกราไฟท์เพิ่มเติมสำหรับเครื่องปฏิกรณ์ MOCVD ทั้งหมดที่ใช้งานอยู่ในปัจจุบัน เราสามารถเคลือบส่วนประกอบเกือบทุกชนิดด้วยการเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์ แม้ว่าส่วนประกอบจะมีเส้นผ่านศูนย์กลางสูงถึง 1.5M แต่เรายังคงสามารถเคลือบด้วยซิลิกอนคาร์ไบด์ได้

สนามเซมิคอนดักเตอร์ กระบวนการแพร่ออกซิเดชัน, ฯลฯ

ในกระบวนการเซมิคอนดักเตอร์ กระบวนการขยายออกซิเดชันต้องใช้ผลิตภัณฑ์ที่มีความบริสุทธิ์สูง และที่ Semicera เรานำเสนอบริการเคลือบ CVD แบบกำหนดเองและแบบกำหนดเองสำหรับชิ้นส่วนซิลิคอนคาร์ไบด์ส่วนใหญ่

รูปภาพต่อไปนี้แสดงสารละลายซิลิกอนคาร์ไบด์ที่ผ่านกระบวนการหยาบของเซมิเซียและท่อเตาซิลิกอนคาร์ไบด์ที่ทำความสะอาดใน 1000-ระดับปราศจากฝุ่นห้อง. พนักงานของเรากำลังทำงานก่อนการเคลือบ ความบริสุทธิ์ของซิลิคอนคาร์ไบด์ของเราสามารถเข้าถึง 99.99% และความบริสุทธิ์ของการเคลือบ sic นั้นมากกว่า 99.99995%.

 

ผลิตภัณฑ์กึ่งสำเร็จรูปซิลิคอนคาร์ไบด์ก่อนการเคลือบ -2

ไม้พายซิลิคอนคาร์ไบด์ดิบและท่อกระบวนการ SiC ในการเคลียร์

หลอด SiC

เรือเวเฟอร์ซิลิคอนคาร์ไบด์ CVD SiC เคลือบ

ข้อมูลประสิทธิภาพ CVD SiC ของ Semi-cera

ข้อมูลการเคลือบ CVD SiC แบบกึ่งเซรา
ความบริสุทธิ์ของซิก
สถานที่ทำงานเซมิเซรา
สถานที่ทำงานเซมีรา2
เซมิเซรา แวร์ เฮ้าส์
อุปกรณ์เครื่อง
การประมวลผลของ CNN, การทำความสะอาดด้วยสารเคมี, การเคลือบ CVD
บริการของเรา

  • ก่อนหน้า:
  • ต่อไป: