การเคลือบ CVD TaC

รู้เบื้องต้นเกี่ยวกับการเคลือบ CVD TaC:

CVD TaC Coating เป็นเทคโนโลยีที่ใช้การสะสมไอสารเคมีเพื่อเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ (TaC) บนพื้นผิวของซับสเตรต แทนทาลัมคาร์ไบด์เป็นวัสดุเซรามิกประสิทธิภาพสูงพร้อมคุณสมบัติทางกลและทางเคมีที่ดีเยี่ยม กระบวนการ CVD จะสร้างฟิล์ม TaC ที่สม่ำเสมอบนพื้นผิวของซับสเตรตผ่านปฏิกิริยาแก๊ส

คุณสมบัติหลัก:

มีความแข็งและทนต่อการสึกหรอดีเยี่ยม: แทนทาลัมคาร์ไบด์มีความแข็งสูงมาก และการเคลือบผิว CVD TaC สามารถปรับปรุงความต้านทานการสึกหรอของซับสเตรตได้อย่างมาก ทำให้การเคลือบเหมาะสำหรับการใช้งานในสภาพแวดล้อมที่มีการสึกหรอสูง เช่น เครื่องมือตัดและแม่พิมพ์

ความเสถียรที่อุณหภูมิสูง: การเคลือบ TaC ช่วยปกป้องเตาเผาที่สำคัญและส่วนประกอบเครื่องปฏิกรณ์ที่อุณหภูมิสูงถึง 2200°C ซึ่งแสดงให้เห็นถึงความเสถียรที่ดี รักษาเสถียรภาพทางเคมีและทางกลภายใต้สภาวะอุณหภูมิสูง ทำให้เหมาะสำหรับการแปรรูปที่อุณหภูมิสูงและการใช้งานในสภาพแวดล้อมที่มีอุณหภูมิสูง

ความคงตัวทางเคมีที่ดีเยี่ยม: แทนทาลัมคาร์ไบด์มีความต้านทานการกัดกร่อนอย่างรุนแรงต่อกรดและด่างส่วนใหญ่ และการเคลือบ CVD TaC สามารถป้องกันความเสียหายต่อซับสเตรตในสภาพแวดล้อมที่มีฤทธิ์กัดกร่อนได้อย่างมีประสิทธิภาพ

จุดหลอมเหลวสูง: แทนทาลัมคาร์ไบด์มีจุดหลอมเหลวสูง (ประมาณ 3880°C) ช่วยให้การเคลือบ CVD TaC สามารถใช้ในสภาวะที่มีอุณหภูมิสูงมากโดยไม่หลอมละลายหรือสลายตัว

การนำความร้อนที่ดีเยี่ยม: การเคลือบ TaC มีค่าการนำความร้อนสูง ซึ่งช่วยกระจายความร้อนในกระบวนการที่มีอุณหภูมิสูงได้อย่างมีประสิทธิภาพ และป้องกันความร้อนสูงเกินไปในท้องถิ่น

การใช้งานที่เป็นไปได้:

• ส่วนประกอบเครื่องปฏิกรณ์แกลเลียมไนไตรด์ (GaN) และซิลิคอนคาร์ไบด์เอพิเทเชียล CVD รวมถึงตัวพาเวเฟอร์ จานดาวเทียม ฝักบัว เพดาน และตัวรับ

• ส่วนประกอบของผลึกซิลิคอนคาร์ไบด์ แกลเลียมไนไตรด์ และอะลูมิเนียมไนไตรด์ (AlN) รวมถึงถ้วยใส่ตัวอย่าง ที่ยึดเมล็ดพืช วงแหวนนำทาง และตัวกรอง

• ส่วนประกอบทางอุตสาหกรรม รวมถึงส่วนประกอบความร้อนแบบต้านทาน หัวฉีด แหวนมาส์ก และอุปกรณ์จับยึด

คุณสมบัติการใช้งาน:

• อุณหภูมิคงที่เหนือ 2000°C ช่วยให้ทำงานที่อุณหภูมิสูงมากได้
•ทนทานต่อไฮโดรเจน (Hz) แอมโมเนีย (NH3) โมโนไซเลน (SiH4) และซิลิคอน (Si) ให้การปกป้องในสภาพแวดล้อมทางเคมีที่รุนแรง
• ความต้านทานการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิทำให้วงจรการทำงานเร็วขึ้น
• กราไฟท์มีการยึดเกาะสูง ทำให้มั่นใจได้ถึงอายุการใช้งานที่ยาวนานและไม่มีการหลุดล่อนของสารเคลือบ
• มีความบริสุทธิ์สูงเป็นพิเศษเพื่อขจัดสิ่งเจือปนหรือสิ่งปนเปื้อนที่ไม่จำเป็น
• การครอบคลุมการเคลือบตามแบบแผนเพื่อความคลาดเคลื่อนของขนาดที่แคบ

ข้อกำหนดทางเทคนิค:

การเตรียมการเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ที่มีความหนาแน่นโดย CVD-

การเคลือบ TAC ที่มีความเป็นผลึกสูงและความสม่ำเสมอที่ดีเยี่ยม：

CVD TAC COATING พารามิเตอร์ทางเทคนิค_เซมิเซร่า:

ข้างต้นเป็นค่าทั่วไป.