Semicera Semicera ให้การเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ (TaC) แบบเฉพาะสำหรับส่วนประกอบและตัวพาต่างๆกระบวนการเคลือบชั้นนำของ Semicera Semicera ช่วยให้การเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ (TaC) มีความบริสุทธิ์สูง มีความเสถียรต่ออุณหภูมิสูง และทนทานต่อสารเคมีสูง ปรับปรุงคุณภาพผลิตภัณฑ์ของผลึก SIC/GAN และชั้น EPI (ตัวรับ TaC ที่เคลือบด้วยกราไฟต์) และยืดอายุของส่วนประกอบเครื่องปฏิกรณ์ที่สำคัญการใช้การเคลือบ TaC แทนทาลัมคาร์ไบด์คือการแก้ปัญหาขอบและปรับปรุงคุณภาพของการเติบโตของผลึก และ Semicera Semicera ได้ค้นพบความก้าวหน้าในการแก้ปัญหาเทคโนโลยีการเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ (CVD) ซึ่งก้าวไปสู่ระดับขั้นสูงระดับสากล
หลังจากหลายปีของการพัฒนา Semicera ได้พิชิตเทคโนโลยีของCVD TaCด้วยความพยายามร่วมกันของแผนก R&Dข้อบกพร่องเกิดขึ้นได้ง่ายในกระบวนการเจริญเติบโตของเวเฟอร์ SiC แต่หลังจากใช้งานแล้วแทคความแตกต่างมีนัยสำคัญด้านล่างนี้คือการเปรียบเทียบเวเฟอร์ที่มีและไม่มี TaC รวมถึงชิ้นส่วนของ Simicera สำหรับการเติบโตของผลึกเดี่ยว
มีและไม่มี TaC
หลังจากใช้ TaC (ขวา)
นอกจากนี้ อายุการใช้งานของผลิตภัณฑ์การเคลือบ TaC ของ Semicera ยังยาวนานกว่าและทนทานต่ออุณหภูมิสูงได้ดีกว่าการเคลือบ SiCหลังจากข้อมูลการตรวจวัดในห้องปฏิบัติการเป็นเวลานาน TaC ของเราสามารถทำงานได้นานที่อุณหภูมิสูงสุด 2300 องศาเซลเซียสต่อไปนี้เป็นตัวอย่างบางส่วนของเรา:
(a) แผนผังของอุปกรณ์การปลูกลิ่มผลึกเดี่ยว SiC โดยวิธี PVT (b) ตัวยึดเมล็ดเคลือบ TaC ด้านบน (รวมถึงเมล็ด SiC) (c) วงแหวนนำกราไฟท์เคลือบ TAC
